主要用于电子陶瓷及其元件、化工材料、磁性材料以及其它陶瓷制品的烧结。设备主要由推进器、主炉体、循环轨道、控制系统等组成，主推进速度连续可调，设多温区自动连续控温及上下分别独立控温系统、炉温稳定度高。