益丰窑业设计制造的气氛窑炉已实现了氮气、氮气空气组合气体、氢气、氢氮配比气、真空、压力纯氧等气氛工况。以满足特种陶瓷、电子陶瓷的工艺要求。 设计中采用的主要气源装置： 瓶装气源：氮气、氨、氧气、氩气等。适用于气体用量较小的窑炉。 机组：氨分解发生器、氨分解净化气、膜（分子筛）制氮机、制氢机组等。气体成本低，但初期投资高，适用于气耗量大的大型窑炉。 窑炉气氛控制： 对气体进行如比率、压力、流量等控制。气体比率的控制采用在线式气体分析仪进行气体分析，通过控制仪表对目标值进行对比，控制执行阀调节气体的流量，达到气氛比率控制的目的。我们已经实现了H2-N2的比率控制，用于荧光粉窑炉；H2-N2的比率控制，用于半导体电容器窑炉；氮气、空气组合气体用于磁性材料窑炉等。 我们为客户提供成套的窑炉气氛装置和技术支持。